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ithome 时政 财经 科技 采集 2026-08-27T16:12:33+00:00

英特尔称14A制程缺陷密度为22nm以来最佳

原始标题:英特尔:14A 缺陷密度曲线是 22nm 以来最佳表现,2027 下半年风险试产

来源
ithome
发布时间
2026-08-27T13:39:12
采集批次
2026-08-27-16
字数
948
URL 指纹
76f070dd5f620711

📌 AI 总结(256 字)

英特尔CFO David Zinsner在德意志银行技术大会上透露,即将推出的Intel 14A制程拥有自22nm节点以来最佳的缺陷密度曲线,并超越18A同期表现。14A采用第二代RibbonFET晶体管、PowerDirect背部供电及High-NA EUV光刻设备,0.5版本PDK已对客户开放。风险试产提前至2027年下半年,2028年量产。先进封装方面,EMIB-T技术预计2027年大规模量产,成本较台积电CoWoS方案最高低50%,博通、Meta等正评估迁移,谷歌2027年AI芯片验证良率达90%。
📄 正文(948 字)
英特尔首席财务官David Zinsner在德意志银行2026年技术大会上表示,即将推出的Intel 14A制程工艺拥有自22nm节点以来最佳的缺陷密度曲线。

22nm是英特尔首个引入FinFET晶体管的工艺节点,以Ivy Bridge架构闻名。将14A与22nm对比,一定程度上也反映出英特尔近年来在先进制程推进上的坎坷:14nm首发时表现不佳,10nm则遭遇严重挫折。但鉴于22nm节点初期同样问题不断,有英特尔员工事后透露,首批Ivy Bridge芯片良率一度为0。

英特尔已多次更新14A的时间规划。2026年5月,CEO陈立武给出的路线图是2028年风险试产、2029年量产。但在7月的财报会议上,时间表被提前一年:2027年下半年开启风险试产,2028年全面大规模量产。

陈立武强调,14A在缺陷密度和晶体管性能两项关键指标上均已超越18A同期表现。14A的0.5版本PDK(工艺设计套件)已向客户开放,0.9版本PDK预计于2026年10月发布。

在技术规格上,14A将采用第二代RibbonFET环绕栅极晶体管、PowerDirect新一代背部供电技术,以及ASML High-NA EUV极紫外光刻设备。

在先进封装领域,英特尔的EMIB-T技术预计2027年实现大规模量产。EMIB通过在有机基板中集成小型硅桥实现高密度互连。EMIB-T集成了硅通孔结构,使ASIC芯片可直接从基板获取电源,支持单一封装内数千瓦级功耗的高性能计算。

博通与Meta等头部客户正在评估将部分原定采用台积电CoWoS方案的项目迁移至EMIB平台。此外,英特尔已为谷歌2027年AI芯片提供EMIB-T封装技术验证,良率达90%。EMIB-T相较CoWoS方案在封装环节的成本差距最高可达50%。

为支撑代工业务,英特尔正加速推进工厂建设。亚利桑那州的Fab 62和Fab 52已准备就绪,即将开始设备安装。俄勒冈州的研发晶圆厂将负责14A工艺的试产及后续量产。此外,俄亥俄州工厂一期项目正全力建设,预计将直接承担14A的量产任务。

英特尔预计,14A和EMIB-T等先进技术将从2027年底开始为Intel Foundry打开市场,实质性的营收贡献将在2028年和2029年显现。