中微半导体设备（上海）股份有限公司在「中微大厦」落成暨22周年庆典上，创始人、董事长兼总经理尹志尧发表了讲话，介绍了公司的发展成就与未来规划。

尹志尧表示，中微公司已开发出54种高端半导体设备，包括26种高能和低能等离子体刻蚀机设备，以及24种各类薄膜设备、化学机械抛光设备和量检测设备。刻蚀和薄膜设备的加工精度已经达到了原子级水平。截至2026年6月底，公司累计已有超过8800个反应台在国内外220余条生产线实现量产。

在经营业绩方面，尹志尧指出，自2012年至今，中微公司已连续14年保持平均年销售35%以上的增长，人均年销售额达到了450万元，和国际领先的设备公司持平。但中微公司的人均成本不到国际公司的一半，公司的劳动生产率远高于国际领先的设备公司。

在研发投入方面，中微公司2025年研发投入约37.4亿元，占全年营业收入比重达30.2%，大幅高于科创板上市公司平均水平。展望未来三至五年，公司计划累计投入约130亿元研发资金，开发上百种新的高端设备。

中微公司是一家微观加工高端设备公司，总部位于上海，开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备可加工微米级和纳米级的各种器件，广泛应用于半导体制造领域。