IT之家8月3日消息，Nikon（尼康）7月30日宣布，该企业将于2027年1月底发售半导体制造设备新品Litho Booster 1000对准站。这一设备与现有机型相比实现了约35%的测量精度提升和10%的晶圆吞吐量提升。

对准站是可并置于光刻机旁的测量设备。其可在不降低产能的前提下对晶圆形变与偏移进行高精度测量，并将获得的校正值前馈至光刻机，从而有助于实现高套刻精度。

尼康表示，芯片结构的3D化正从CIS（CMOS图像传感器）扩展至逻辑和存储器件，业界在曝光及晶圆对晶圆键合的工序中对晶圆形变与偏移的精细掌握需求正在不断提升。

Litho Booster 1000通过重新优化晶圆卡盘，显著降低了晶圆吸附过程中的误差，相比现有机型的对准测量精度提升约35%；其通过提升测量系统光源性能，使对准标记和套刻标记更易检测，从而适应多种工艺条件；而通过晶圆搬运机器人运输速度的提升，该设备吞吐量较现有机型提升约10%，还能搬送翘曲程度更大的晶圆。